許多工業(yè),尤其是制藥業(yè)和電子工業(yè),消耗的高純水量與日劇增。雖然在這些工業(yè)中使用高純水設(shè)備的原因不盡相同,但對高純水質(zhì)量標準的要求卻大抵相同。當(dāng)?shù)凸β?MOS 集成電路開始大量投產(chǎn)時,人們就認識到:通過對作功的晶體表面強去污便可改善這類 MOS 電路(例如手表電路)的工作可靠性和長期穩(wěn)定性。這種想法就是*大限度地清除離子,特別是堿金屬和重金屬離子,化學(xué)家證實了高純水是一種*有效的去污劑。高純水設(shè)備可認為是制取一種純度達99.99999~+純水的設(shè)備。